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詳細摘要： 上海伯東代理美國 KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發系統, PLD 脈沖激光系統等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pr...

詳細摘要： 上海伯東某客戶在熱蒸發鍍膜機中配置美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的...

詳細摘要： 上海伯東美國 KRi 霍爾離子源 EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi 霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業, 半...

詳細摘要： 上海伯東美國進口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強設計輸出高質量, 穩定的電子流.

詳細摘要： 美國 KRI 霍爾離子源 eH 系列緊湊設計, 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等級的細微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面...

詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統, 可以控制...

詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 75:緊湊柵極離子源,離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內, 考夫曼離子源 ...

詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源. 適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗,...

詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅...

詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eH 1000 所有的性能, 低成本設計提供高離子電流,...

詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上, 提供高離子束流的離子源.

詳細摘要： 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供多個類型的低能量高密度的電子源, 從簡單的熱電子燈絲模式到中空陰極模式,典型應用在等離子和離子工藝中的陰極和陽極中和器, ...

詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現佳的均勻...

詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和...

詳細摘要： 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供中空陰極 e-Mission Hollow Cathodes 結構緊湊, 重量輕, 可以安裝在離子源或真空系統的側面, 相...

詳細摘要： KRI Ion Source 應用領域：無柵極等離子源技術----End-Hall 離子/等離子源有柵極離子源技術----RFICP 離子源----DC 離子源...