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行業產品

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鵬城半導體技術(深圳)有限公司


經營模式:生產廠家

商鋪產品:5條

所在地區:廣東深圳市

聯系人:戴小姐 (市場主管)

公司檔案

   鵬城半導體技術(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導體),由哈爾濱工業大學(深圳)與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術前沿與市場前沿的交叉點,尋求創新yin*ling與可持續發展,解決產業的痛點和國產化難題,爭取產業鏈的自主可控。

   公司核心業務是微納技術與gao*duan精密制造,具體應用領域包括半導體材料、半導體工藝和半導體裝備的研發設計和生產制造。

   公司人才團隊知識結構完整,有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊;還有來自工業界的高級裝備設計師團隊,他們具有20多年的半導體材料研究、外延技術研究和半導體薄膜制備成套裝備設計、生產制造的經驗。

   公司依托于哈爾濱工業大學(深圳),具備*的半導體研發設備平臺和檢測設備平臺,可以在高起點開展科研工作。公司總部位于深圳市,具備半導體裝備的研發、生產、調試以及半導體材料與器件的中試、生產、銷售的能力。



公司主營業務

微納米材料與器件、微納米制造工藝、微納工藝裝備、工藝自動化及軟件系統

化合物半導體襯底材料和外延片

|化合物半導體系列

氮化鎵、碳化硅、氧化鎵、砷化鎵、金剛石等


|物理氣相沉積(PVD)系列

磁控濺射、電子束、熱蒸發、離子束濺射、離子輔助磁控濺射、多弧離子鍍、磁控濺射與離子束濺射復合、磁控濺射與多弧離子鍍復合

|化學氣相沉積(CVD)系列

PECVD、ICPECVD、MOCVD、LPCVD、熱絲CVD、微波CVD


|超高真空系列

MBE分子束外延設備(科研型、生產型)、超高真空磁控濺射外延設備(10-8Pa)


|其它

ICP等離子刻蝕機、半導體合金退火爐、等離子清洗機、真空機械手、金剛石薄膜與厚膜生長設備


|團簇式設備系列

太陽能薄膜電池設備:PECVD+磁控濺射+樣品預處理+真空自動機械手

OLED中試設備:熱蒸發+電子束+磁控濺射+PECVD+樣品預處理+真空自動機械手+手套箱封裝室

綜合薄膜制備和器件制造實驗平臺:以內置真空機械手的樣品傳遞室為中心(配4~8個進出口),配置各真空工藝室


|技術服務

非標成套薄膜制備設備設計制造、薄膜制備設備升級改造、自動化軟硬件設計

承接工藝研發、樣品試制與打樣、進口設備真空零部件的維修和替換及控制系統更新

本科及研究生的畢業課題立項及實訓培養、工程師培訓


團隊部分業績分布

   wan*quan自主設計制造的分子束外延(MBE)設備,包括自主設計制造的MBE超高真空外延生長室、工藝控制系統與軟件、高溫束源爐、高溫樣品臺、Rheed原位實時在線監控儀(反射高能電子衍射儀)、直線型電子槍、膜厚儀(可計量外延生長的分子層數)、射頻源等關鍵部件。真空度達到2×10-8Pa。

   設備于2005年在浙江大學光學儀器國家重點實驗室投入使用,至今仍在正常使用。

   設計制造磁控濺射與等離子體增強化學氣相沉積法PECVD技術聯合系統,應用于團簇式太陽能薄膜電池中試線。使用單位中科院電工所。

   設計制造了金剛石薄膜制備設備,應用于金剛石薄膜材料的研究與中試生產設備。現使用單位中科院金屬研究所。

   設計制造了全自動磁控濺射設備,可加水平磁場和垂直磁場,自行設計的真空機械手傳遞基片。應用于高密度磁記錄材料與器件的研究和中試。現使用單位國家光電實驗室。

   設計制造了OLED有機半導體發光材料及器件的研究和中試成套裝備。現使用單位香港城市大學*材料實驗室。

   設計制造了MOCVD及合金退火爐,用于GaN和ZnO的外延生長,實現LED無機半導體發光材料與器件的研究和中試。現使用單位南昌大學國家硅基LED工程技術研究中心。

   設計制造了磁控濺射研究型設備。現使用單位浙江大學半導體所。

   設計制造了電子束蒸發儀研究型設備。現使用單位武漢理工大學。


團隊在第三代半導體裝備及工藝方面的技術積累

2001年 與南昌大學合作

設計了中試型的全自動化監控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。

2005年 與浙江大學光學儀器國家重點實驗室合作

設計制造了di*yi臺wan*quan自主知識產權的分子束外延設備,用于外延光電半導體材料。

2006年  與中國科技大學合作

設計設計超高溫CVD 和MBE。

用于4H晶型SiC外延生長。

2007年 與蘭州大學物理學院合作

設計制造了光學級金剛石生長設備(采用熱激發技術和CVD技術)。

2015年  中科院金屬研究所沈陽材料科學國家(聯合)實驗室合作

設計制造了金剛石薄膜制備,制備了金剛石電極、微米晶和納米晶金剛石薄膜、導電金剛石薄膜。

2017年

-優化Rheed設計,開始生產型MBE設計。

-開始研制PVD方法外延GaN的工藝和裝備,目前正在進行設備工藝驗證。

2019年 設計制造了大型熱絲CVD金剛石薄膜的生產設備。

2021年 MBE生產型設計。

2022年 大尺寸金剛石晶圓片制備(≥Φ6英寸)。

2023年 PVD方法外延氮化鎵裝備與工藝攻關。



主營產品

高真空磁控濺射儀,高真空電阻熱蒸發鍍膜機,高真空電子束蒸發鍍膜機,金剛石薄膜制備設備,熱絲CVD,PECVD設備,LPCVD設備,分子束外延薄膜生長設備(MBE),MOCVD設備

企業工商信息

成立時間:2021年9月27日[已認證]

注冊資本: 1063.83萬元 [已認證]

經營范圍:一般經營項目是:技術服務、技術開發、技術咨詢、技術交流、技術轉讓、技術推廣;新材料技術研發;新材料技術推廣服務;真空鍍膜加工;泵及真空設備制造;泵及真空設備銷售;電子真空器件制造;電子真空器件銷售;半導體器件專用設備制造;半導體器件專用設備銷售;半導體分立器件制造;半導體分立器件銷售;機械設備租賃;軟件開發;工業設計服務;教育咨詢服務(不含涉許可審批的教育培訓活動);會議及展覽服務;廣告設計、代理;廣告制作;儀器儀表修理;化工產品銷售(不含許可類化工產品);新型金屬功能材料銷售;儀器儀表銷售;電子產品銷售;通訊設備銷售。(除依法須經批準的項目外,憑營業執照依法自主開展經營活動),許可經營項目是:互聯網信息服務。(依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動,具體經營項目以相關部門批準文件或許可證件為準)[已認證]

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