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SCREEN單片式半導體清洗設備SU3100具有8個內置腔室，吞吐量能夠達到300wph

設備描述及主要配置機臺針對4寸晶圓后端制程設計，用于單片清洗

SCREEN二手清洗設備WS-820L，針對8英寸晶圓的高通量批量清洗系統可實現靈活的生產線配特點：1.傳輸類型選擇WS-820L用于200毫米晶圓并進行無載體...

SUSSMicroTec的半自動濕處理系統AD12為水介質應用提供了的清潔和開發功能

關鍵應用：柵極預清洗RCA清洗光阻去除氧化硅腐蝕氮化硅腐蝕CoSix選擇性腐蝕產品優勢：1、占地面積小，將外部unit集成在設備內部來減小整體的占地面積

隨著半導體芯片工藝技術的發展，工藝技術節點進入28納米以及14nm等更*等級，隨著工藝流程的延長以及越趨復雜，每個晶片在整個制造過程中需要超過200道清洗步驟，...