詳細摘要: 晶體加工鍍膜大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸,有八分之八十以上工序需要進行化學處理,水質不純將直接影響產品部件性能。
產品型號:所在地:更新時間:2023-12-19 在線留言粉碎設備 混合設備 分離設備 濃縮結晶設備 傳質設備 干燥設備 反應設備 換熱設備 制冷設備 空分設備 儲存設備 鍋爐|加熱設備 包裝機械 輸送設備 化工實驗室設備
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詳細摘要: 晶體加工鍍膜大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸,有八分之八十以上工序需要進行化學處理,水質不純將直接影響產品部件性能。
產品型號:所在地:更新時間:2023-12-19 在線留言詳細摘要: 半導體生產用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格,達到PPb級,產水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。
產品型號:所在地:更新時間:2023-12-17 在線留言詳細摘要: 電子芯片超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格,達到PPb級,產水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。
產品型號:所在地:更新時間:2023-12-16 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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