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上海伯東推出半導體排氣監測用質譜分析儀 Aston™
閱讀：193 發布時間：2022-4-21上海伯東日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 專為半導體生產而設計, 實現工藝過程控制, 作為一個強大的平臺, Aston™ 可以取代多種傳統工具, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產中的氣體偵測分析, 實現尾氣在線監控, 診斷并在一系列應用中提供的控制水平, 適用于光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
Aston™ 質譜分析儀耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液, 能夠在半導體生產遇到的惡劣工況下可靠運行, 與傳統質量分析儀相比, 使用 Aston™ 的維修間隔更長. 它包括自清潔功能, 可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導致的污垢積累.
Aston™ 特性
實時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導體制造的分子分析原位平臺, 提供實時, 可操作的數據
采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產工具*集成
Atonarp Aston™ 技術參數
類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
型號 | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
質量分離 | 四級桿 | |||||
真空系統 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 |
檢測器 | FC /SEM | |||||
質量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
檢測限 | 0.1 PPM | |||||
工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
功率 | 350 W | |||||
重量 | 15 kg | |||||
尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) | ||||
Aston™ 質譜分析儀 CVD 典型應用: Dry pump 干泵排氣在線監測,診斷
在惡劣的 CVD 環境中, Aston™ 利用可操作的數據預測和預防因 PV-CVD 干泵引起的災難性故障, 能夠對破壞性腐蝕或沉積進行預測建模, 優化氮氣吹掃成本.
適用場景: 多個腔室連接到1個干泵, 高濃度的電介質會導致災難性的泵故障 (一次損失 10-100 片的晶圓)
通過使用上海伯東 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 可以提高半導體制造工藝的產量, 吞吐量和效率, 此款質譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進行安裝, 也可將其加裝到已運行的現有腔室, 可在短時間內實現晶圓更高產量!
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