平面平晶具有兩個（或一個）光學測量平面的正圓柱形或長方形的量規。光學測量平面是表面粗糙度數值和平面度誤差都極小的玻璃平面，它能夠產生光波干涉條紋（見激光測長技術）。平晶有平面平晶和平行平晶兩種。平面平晶用于測量高光潔表面的平面度誤差，為用平面平晶檢驗量塊測量面的平面度誤差。平行平晶的兩個光學測量平面是相互平行的，用于測量兩高光潔表面的平行度誤差，例如千分尺兩測量面的平行度誤差.平晶用光學玻璃或石英玻璃制造。圓柱形平面平晶的直徑通常為45～150毫米。其光學測量平面的平面度誤差為:1級精度的為0.03～0.05微米；2級精度的為0.1微米。常見的長方形平面平晶的有效長度一般為200毫米。

     《國家標準》

　　JJG28-2000 成都威博恩快速檢驗標準

　　平行平晶是用于以干涉法測量塊規，以及檢驗塊規、量規、零件密封面、測量儀器及測平晶

　　量工具量面的研合性和平面度的 常用工具。

　　適用于光學加工廠、廠礦企業計量室、精密加工車間、閥門密封面現場檢測使用，也適用于高等院校、科學研究等單位做平面度等檢測。

　　1、平面平晶YDF-1 標準外形尺寸 單位：mm

　　規格30 45 60 80 100 150 200 250

　　直徑30 45 60 80 100 150 200 250

　　高度15 15 20 20 25 30 40 45 平晶

　　特殊規格尺寸平面平晶,環形平面平晶,方形平面平晶可定做.

　　2、平面平晶制成兩種精度：1級 和2級

　　3、平面平晶工作面的平面度偏差允許值為：

　　直徑為 30至60mm 1級平晶0.03μm

　　直徑為30至60mm 2級平晶0.1 μm

　　直徑為80至150mm 1級平晶0.05μm

　　直徑為80至150mm 2級平晶0.1 μm

　　更大尺寸平面平晶平面度偏差允許值，根據國家標準。

　　4、平面平晶工作面的局部偏差允許值為：0.03μm

　　5、平面平晶測量工作應在室溫2 0℃±3℃條件下保持數小時后進行。

　　平晶是利用光波干涉現象測量平面度誤差的，故其測量方法稱為平晶干涉法（圖2）,也稱技術光波干涉法。測量時,把平晶放在被測表面上,且與被測表面形成一個很小的楔角θ，以單色光源照射時會產生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關。如入射光線垂直于被測表面，且平晶與被測表面間的間隙很小,則由平晶測量面P反射的光線與被測表面反射的光線在測量面P發生干涉而出現明或暗的干涉條紋。若在白光下，則出現彩色干涉條紋。如干涉條紋平直，相互平行,且分布均勻,則表示被測表面的平面度很好；如干涉條紋彎曲，則表示平面度不好。其誤差值為f= (v/ω)×(λ/2)

λ為光波波長，白光的平均波長為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量，ω為干涉帶間距。